英伟达确认，台积电正在利用cuLitho打算光刻平台进行生产，使其能够加速下一代芯片技能的开拓。英伟达还开拓了运用天生式人工智能的算法，以进一步提升cuLitho打算光刻平台的代价，与加速打算相结合，让事情流程提升了额外两倍的速率。
台积电董事长兼首席实行官魏哲家表示：“我们与英伟达互助，将GPU加速运算整合到台积电的事情流程中，从而实现了性能的巨大飞跃，大幅提高了吞吐量，缩短了周期韶光，并降落了功耗哀求。”
打算光刻紧张通过软件对全体光刻过程进行建模和仿真，利用光掩模文件的数学预处理来调度光学光刻中的像差和效果，以优化光源形状和光罩形状，减小光刻成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态，从而提高良品率。据理解，利用cuLitho打算光刻库，可以将事情负载转换成GPU并行处理，使得500个NVIDIA DGX H100就能完成40000个CPU组成的系统所完成的事情。
英伟达称，通过GPU而不是CPU运算，可以将打算光刻的效率提高40倍，大大减轻晶圆厂的包袱。
